3D Density-Gradient Simulation of a Nanowire MOSFET
Application ID: 73771
This 3D model of a nanowire MOSFET employs the density-gradient theory to add the effect of quantum confinement to the conventional drift-diffusion formulation, without requiring excessively high computational costs. The oxide layer is simulated explicitly with geometric domains, and quantum confinement at the silicon-oxide interface is accounted for via a dedicated boundary condition. The density-gradient effective mass is anisotropic. Various selection utilities are used to simplify the assignment of physics settings and plot selections. The result matches well with the Id-Vg curves and electron density profiles published in the reference paper.

この model の例は, 通常次の製品を使用して構築されるこのタイプのアプリケーションを示しています.
ただし, これを完全に定義およびモデル化するには, 追加の製品が必要になる場合があります. さらに, この例は, 次の製品の組み合わせのコンポーネントを使用して定義およびモデル化することもできます.
アプリケーションのモデリングに必要な COMSOL® 製品の組み合わせは, 境界条件, 材料特性, フィジックスインターフェース, パーツライブラリなど, いくつかの要因によって異なります. 特定の機能が複数の製品に共通している場合もあります. お客様のモデリングニーズに適した製品の組み合わせを決定するために, 製品仕様一覧 を確認し, 無償のトライアルライセンスをご利用ください. COMSOL セールスおよびサポートチームでは, この件に関するご質問にお答えしています.