アプリケーションギャラリ

この例では, 水で満たされた貯水池の上に置かれた細い垂直シリンダーを調べます. 空気と水の界面の壁面接着と表面張力により, 水は流路を通って上昇します. 表面張力と壁面接着力は, MEMS デバイスのマイクロ流路を通じて流体を輸送したり, マイクロピペットを使用して少量の流体を測定, 輸送, 配置したりするためによく使用されます. 多孔質媒体を通る多相流や固体壁上の液滴も, 壁面接着力と表面張力が流れのダイナミクスに強く影響する例です. 壁面の接着力を正しくモデル化するには, 境界条件の扱いが重要です. 壁面の速度をゼロに固定すると, ... 詳細を見る

この例では, 静電インターフェースを使用して, 一般的な高電圧絶縁体の表面電場を計算する方法を示します. グレーディングリングを設置すると, 表面電場の不均一性と最大値が大幅に減少することが示されています. このようにして, 高電圧絶縁体はより高い過電圧に耐えることができます. 詳細を見る

Wastewater treatment is a several-step process for removing contaminants. Firstly, large, solid particles are removed through sedimentation, flotation, and filtration. And then in a second step, biological treatment causes the smaller particles to aggregate, forming so called flocs. ... 詳細を見る

This app demonstrates the following: Selecting predefined or user-defined materials User option to switch between laminar flow or turbulent flow Changing boundary conditions using methods Visualizing temperature dependent material properties as graph plots User option to set the solver ... 詳細を見る

Liquid-liquid extraction is a process used to separate or transfer species between two immiscible liquids. Transfer of species from one phase to the other is driven by a difference in relative solubility. In this model a water filled extraction column is studied. Oil droplets containing ... 詳細を見る

This tutorial simulates a small vibrating hemispherical particle in water. The particle has a radius of 1 mm and is oscillating in the axial direction at a frequency of 50 kHz. The vibrations induce acoustic waves in the fluid. The example demonstrates how to set up a thermoviscous ... 詳細を見る

Permanent magnet bearings are used in turbomachinery, pumps, motors, generators, and flywheel energy storage systems, to mention a few application areas; contactless operation, low maintenance, and the ability to operate without lubrication are some key benefits compared to conventional ... 詳細を見る

Chemical vapor deposition (CVD) is an important step in the process of manufacturing microchips. One common application is the deposition of silicon on wafers in low pressure reactors to obtain uniform deposition thicknesses. This example models the coupled reaction kinetics, fluid ... 詳細を見る