Surface Chemistry Tutorial Using the Plasma Module
Application ID: 9663
Surface chemistry is often an overlooked aspect of reacting flow modeling. This tutorial model shows how surface reactions and species can be added to study processes like chemical vapor deposition (CVD). The tutorial then models silicon growth on a wafer.
Initially, the example uses a global model to investigate a broad region of parameters with complex chemistry. Then, a space-dependent model is set up and run. Careful attention is paid to the overall mass balance in the system while the difference between the mass-averaged velocity and diffusion velocity is explored. The model demonstrates that the total mass and molar concentration in the system is conserved. Finally, the height of the deposited silicon is studied as a function of time.

この model の例は, 通常次の製品を使用して構築されるこのタイプのアプリケーションを示しています.
ただし, これを完全に定義およびモデル化するには, 追加の製品が必要になる場合があります. さらに, この例は, 次の製品の組み合わせのコンポーネントを使用して定義およびモデル化することもできます.
アプリケーションのモデリングに必要な COMSOL® 製品の組み合わせは, 境界条件, 材料特性, フィジックスインターフェース, パーツライブラリなど, いくつかの要因によって異なります. 特定の機能が複数の製品に共通している場合もあります. お客様のモデリングニーズに適した製品の組み合わせを決定するために, 製品仕様一覧 を確認し, 無償のトライアルライセンスをご利用ください. COMSOL セールスおよびサポートチームでは, この件に関するご質問にお答えしています.