プラズマモジュール

非平衡プラズマ

プラズマモジュールは, 静電場または時間電場によって維持される低温プラズマ反応器をモデル化するための組み込みのユーザーインターフェースを搭載しています. これらのインターフェースはそれぞれ, ドメイン方程式, 境界条件, 初期条件, 事前定義されたメッシュ, 定常および過渡解析のソルバー設定による事前定義されたスタディ, および事前定義されたプロットと計算値のセットを定義します. すべての化学種 (電子, イオン, 中性粒子) の輸送方程式は, ポアソン方程式で自己無撞着に求解されます. また, 電子の平均エネルギー方程式は, 電子が電場からエネルギーを得て, 背景ガスとの衝突でエネルギーを失う方法をモデル化することによって解くことができます.

プラズマ化学反応

プラズマ化学は, 現実的なシミュレーション結果を得るために非常に重要です. プラズマモジュールを使用すると, 電子衝突反応, 重化学種間の反応, および表面反応を定義することができます.

プラズマ化学は, 背景ガスとの衝突で電子がどのようにエネルギーを失ったり得たりするかを決定します. プラズマモジュールは, 電離, 励起, および付着につながる電子衝撃反応をモデル化するための専用機能を提供します. 電子衝突反応は断面データから定義でき, ソース項は電子エネルギー分布関数を適切に積分することで得られます.

ICP 反応器をモデル化するためのマルチフィジックスインターフェース

誘導性結合プラズママルチフィジックスインターフェース¹は, 誘導電流によって維持される放電を解析するために使用されます. このマルチフィジックスインターフェースは, プラズマインターフェースからのプラズマ伝導率を磁場インターフェースに接続し, 誘導電流による電子加熱をプラズマインターフェースに結合します. 磁場は周波数領域で, プラズマは時間領域で解かれます.

平衡放電をモデル化するためのマルチフィジックスインターフェース

プラズマモジュールには, 熱力学的平衡状態におけるプラズマをモデル化するためのインターフェースが含まれています. 熱力学的平衡では, 電子と重化学種は同じ温度を持ち, プラズマは単一の温度で特徴付けることができます. このような条件のプラズマをモデル化するために, プラズマモジュールには, 電気的励起のタイプに基づいたいくつかの平衡放電インターフェースが用意されています. 平衡 DC 放電, 平衡誘導性結合プラズマ¹, および複合誘導/DC放電¹です. これらのインターフェースは, 磁気流体力学的アプローチにおいて, プラズマを1つの温度を持つ単一の流体として記述します. 平衡放電インターフェースは, 流体の流れ, 熱伝達, 磁場, および電流のインターフェースを結合したものです. プラズマフィジックスは, 特定の熱源を流体に組み込むマルチフィジックスカップリング機能によって, および電気伝導率, 熱容量, 輻射熱伝達などのプラズマ特性を介して導入されます.

マイクロ波プラズマをモデル化するためのマルチフィジックスインターフェース

マイクロ波プラズママルチフィジックスインターフェース²は, 電磁波によって維持される放電 (波動加熱放電) を解析するために使用されます. このインターフェースを選択すると, プラズマインターフェースと電磁波インターフェース, およびマルチフィジックスカップリングが自動的に生成されます. プラズマ伝導度結合機能は, プラズマ伝導度を電磁波インターフェースに結合し, 電子熱源機能は, 結果として生じる電子加熱をプラズマインターフェースに結合します. 電磁波は周波数領域で, プラズマは時間領域で解かれます.

プラズマと表面の相互作用のための境界条件

プラズマモジュール内の組み込みユーザーインターフェースの一部として, プラズマが表面とどのように相互作用するかを記述するためのさまざまな境界条件が用意されています. たとえば, 表面での電子密度とエネルギー流束は, 壁機能を適用することで簡単に定義できます. この機能により, 電子伝達方程式に輸送による損失が導入されます. 表面での二次電子放出や一般的な電子流束などの追加の流束源を含めることができます.

荷電粒子の流束は電極で自動的に計算され, 外部回路をモデル化するために追加できます. 誘電体がプラズマと接触している場合, 表面での荷重種の流束から表面電荷蓄積を計算することができます.

Multiphysics Interfaces for Modeling ICP Reactors with RF Bias

The Inductively Coupled Plasma with RF Bias interface¹ is used to study discharges that are sustained by induction currents and by an RF bias. This multiphysics interface connects the plasma conductivity from the Plasma, Time Periodic interface to the Magnetic Fields interface and couples the electron heating resulting from the induction currents back to the Plasma, Time Periodic interface. The magnetic field is solved for in the frequency domain and the plasma is solved for in the time domain.

Multiphysics Interfaces for Modeling Fluid Flow and Heat Transfer of Background Gases

The Nonisothermal Plasma Flow interfaces combine plasma, fluid flow, and heat transfer interfaces to model background gas flow and heating in a plasma reactor. The heat transfer in the materials surrounding a plasma can also be simulated. The Nonisothermal Plasma Flow multiphysics feature automatically computes the heat source resulting from plasma reactions and inputs it into heat transfer interfaces as a volume heat source. Fluid and thermodynamic properties like viscosity and thermal conductivity are computed in the Plasma interface and passed automatically to fluid flow and heat transfer interfaces.

CCP 反応器をモデル化するためのフィジックスインターフェース

プラズマモジュールには, 従来の方法よりも大幅に短縮された計算時間で CCP をモデル化するための特殊な数値的方法が搭載されています. 時間領域で解く代わりに, 基礎となる数学方程式に追加の次元を追加することにより, 周期的な定常状態の解が計算されます. この追加の次元の方程式は, 1つの RF サイクルを表し, 周期境界条件を適用します. これにより, 何万, 何十万ものRFサイクルを解く必要がなくなり, プラズマが周期的な定常解に到達するまでに長い時間がかかることが避けられます. このアプローチは, モデルのすべての非線形性を維持しながら, 計算時間を劇的に短縮してくれます.