Electrostatic Chuck
Application ID: 105311
This models pressure-dependent heating of 4 inch wafer on unipolar electrostatic chuck. Wafer sits on top of ring with electrostatic force holdong down wafer to counter upward pressure from gas flowing in gap between wafer and chuck surface. It is a problem involving 4 coupled physics (SM, ES, LF + HT) and moving mesh.
involves electrostatic force, fluid-structure interaction and heat transfer.
for now it is 2d Axisymmetric but can be adapted to a 3D model with more detailed gas channel patterns on e-chuck surface.
この model の例は, 通常次の製品を使用して構築されるこのタイプのアプリケーションを示しています.
ただし, これを完全に定義およびモデル化するには, 追加の製品が必要になる場合があります. さらに, この例は, 次の製品の組み合わせのコンポーネントを使用して定義およびモデル化することもできます.
- COMSOL Multiphysics® and
- either the AC/DC モジュール, or MEMS モジュール and
- either the MEMS モジュール, or 構造力学モジュール and
- either the CFD モジュール, マイクロフルイディクスモジュール, or プラズマモジュール
アプリケーションのモデリングに必要な COMSOL® 製品の組み合わせは, 境界条件, 材料特性, フィジックスインターフェース, パーツライブラリなど, いくつかの要因によって異なります. 特定の機能が複数の製品に共通している場合もあります. お客様のモデリングニーズに適した製品の組み合わせを決定するために, 製品仕様一覧 を確認し, 無償のトライアルライセンスをご利用ください. COMSOL セールスおよびサポートチームでは, この件に関するご質問にお答えしています.